| 研究課題/領域番号 |
24246048
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電力工学・電力変換・電気機器
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| 研究機関 | 豊橋技術科学大学 |
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研究代表者 |
滝川 浩史 豊橋技術科学大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (90226952)
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| 研究分担者 |
清原 修二 舞鶴工業高等専門学校, 電子制御工学科, 准教授 (40299326)
金子 智 神奈川県産業技術センター, その他部局等, 研究員 (40426359)
山田 健二 石川工業高等専門学校, 電気情報工学科, 准教授 (50249778)
羽渕 仁恵 岐阜工業高等専門学校, 電子情報工学科, 准教授 (90270264)
田上 英人 北九州工業高等専門学校, 電気電子工学科, 講師 (50580578)
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| 連携研究者 |
須田 善行 豊橋技術科学大学, 工学研究科, 准教授 (70301942)
柴田 隆行 豊橋技術科学大学, 工学研究科, 教授 (10235575)
川島 貴弘 豊橋技術科学大学, 工学研究科, 准教授 (50378270)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
47,060千円 (直接経費: 36,200千円、間接経費: 10,860千円)
2014年度: 11,700千円 (直接経費: 9,000千円、間接経費: 2,700千円)
2013年度: 11,570千円 (直接経費: 8,900千円、間接経費: 2,670千円)
2012年度: 23,790千円 (直接経費: 18,300千円、間接経費: 5,490千円)
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| キーワード | フィルタードアーク蒸着 / ダイヤモンドライクカーボ ン膜 / 微細加工 / ナノテクノロジー / パターニング / エッチング / MEMS / ダイヤモンドライクカーボン膜 / 高品質化 / 前処理 / 均一成膜 / 膜厚制御 / 異物フリー技術 / くし形微細加工 |
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| 研究成果の概要 |
真空中で発生させたアーク放電を高度に技術利用したフィルタードアークプラズマビーム蒸着システムを更に高機能化し，4インチSiウエハ上に高品質で均一膜厚の水素フリー高密度アモルファスカーボン膜を形成する装置システムおよびノウハウを開発・構築・確立した。均一膜厚成膜を実現するため，純カーボンプラズマビームの挙動を電磁気的に制御するとともに，基板（ウエハ）のモーションを制御する手法を確立した。膜厚約500 nmにおいてウエハ内膜厚変化5％以下を実現した。さらに，同膜付基板をMEMS等への機能性基板として利用するため，成膜条件による膜質の変化を明確化し，膜の加工性についての基礎的知見を得た。
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