| 研究課題/領域番号 |
24350001
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 一部基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
物理化学
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| 研究機関 | 千葉大学 |
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研究代表者 |
中村 将志 千葉大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70348811)
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| 研究分担者 |
遠藤 理 東京農工大学, 工学部, 助教 (30343156)
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| 連携研究者 |
坂田 修身 物質・材料研究機構, 中核機能部門高輝度放射光ステーション, ステーション長 (40215629)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円)
2014年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2013年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2012年度: 10,920千円 (直接経費: 8,400千円、間接経費: 2,520千円)
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| キーワード | 電気二重層 / 表面X線回折 / 外部ヘルムホルツ面 / 外部ヘルムホルツ層 / 時分割X線回折 / 電極反応 / 時分割測定 / X線回折法 / 赤外分光法 |
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| 研究成果の概要 |
1. 表面X線回折と赤外分光を用いてPt(111)表面酸化における非特異吸着イオンの影響を調べた。LiOH溶液中では，最初の酸化電流ピーク後にOH吸着層が形成される。一方，CsOH溶液中ではOH吸着層の形成なく酸化が進行していくことが分かった。2. Ag(100)電極界面の二重層充放電過程における界面イオン種の動的過程を時分割X線回折により明らかにした。正電位側への電位ステップでは，過渡電流と類似のタイムスケールでCsイオンが外部ヘルムホルツ層から離れていく。一方，負電位側への電位ステップでは２つのステップからなる。最初はCsイオンが表面近傍に集まり，安定な構造へ収束していく。
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