| 研究課題/領域番号 |
24360308
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 一部基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
平藤 哲司 京都大学, エネルギー科学研究科, 教授 (70208833)
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| 研究分担者 |
土井 俊哉 京都大学, エネルギー科学研究科, 教授 (30315395)
三宅 正男 京都大学, エネルギー科学研究科, 准教授 (60361648)
池之上 卓己 京都大学, エネルギー科学研究科, 助教 (00633538)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
17,680千円 (直接経費: 13,600千円、間接経費: 4,080千円)
2014年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2013年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2012年度: 10,010千円 (直接経費: 7,700千円、間接経費: 2,310千円)
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| キーワード | めっき / 添加剤 / 金属薄膜 / 電気化学プロセス / 表面・界面制御 / 電気化学 |
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| 研究成果の概要 |
高い光沢性を有し、かつ高純度の Al 電析膜を得ることを目的に、ジメチルスルホン浴中の微量成分が Al 電析に及ぼす影響を調べ、有効に作用する添加剤の開発を行った。主な成果は以下の通りである。1) トリエチレンテトラミンの浴への添加によって、光沢を有する Al 電析膜が得られることを見出した。2) 浴中の水分が Al 電析に及ぼす影響および浴からの水分の除去法を明らかにした。3) 光沢剤と高純度化剤を同時に添加した場合の影響を明らかにした。 4) Al 電析用の新規有機溶媒浴を得た。
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