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シリコン表面に埋め込まれたリン原子の電子状態と相互作用

研究課題

研究課題/領域番号 24510160
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 ナノ材料・ナノバイオサイエンス
研究機関独立行政法人物質・材料研究機構

研究代表者

鷺坂 恵介  独立行政法人物質・材料研究機構, 極限計測ユニット, 主任研究員 (70421401)

研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2015-03-31
研究課題ステータス 完了 (2014年度)
配分額 *注記
5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円)
2014年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2013年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2012年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
キーワードドーパント / シリコン / 走査型トンネル顕微鏡 / 第一原理計算 / 走査トンネル分光 / トンネル分光
研究成果の概要

走査型トンネル顕微鏡(STM)および密度汎関数(DFT)法に基づくSTMシミュレーションを用いて、Si(100)表面第一層に埋め込まれたリン(P)-シリコン(Si)ヘテロダイマーの電子状態を調べた。先行研究によれば、P-SiヘテロダイマーはP原子が真空側に突き出し、Si原子が表面側に沈み込んだバックリング構造をとるとされている。しかし精密なSTM計測とDFT計算を行ったところ、ヘテロダイマーはP原子が表面側に沈み込んだ構造であることが判明した。またヘテロダイマーのSi原子側にはフェルミ準位付近に強い状態を持つことや、P原子と空孔の対はスピン偏極した状態を持つ可能性があることが明らかになった。

報告書

(4件)
  • 2014 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2013 実施状況報告書
  • 2012 実施状況報告書
  • 研究成果

    (5件)

すべて 2015 2014 2013 2012

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (4件) (うち招待講演 1件)

  • [雑誌論文] Adsorption of phosphorus molecules evaporated from an InP solid source on the Si(100) surface2013

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Sagisaka, Michael Marz, Daisuke Fujita, and David Bowler
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 87 号: 15

    • DOI

      10.1103/physrevb.87.155316

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 極低温・高磁場STMによる表面ナノ物性計測2015

    • 著者名/発表者名
      鷺坂恵介, 艸分倫子, 藤田大介
    • 学会等名
      共用・計測合同シンポジウム2015
    • 発表場所
      物質・材料研究機構
    • 年月日
      2015-03-10
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Adsorption of phosphorus on Si(100) studied by STM and DFT2014

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Sagisaka
    • 学会等名
      Condensed Matter Physics Seminar
    • 発表場所
      The University of Liverpool
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] STMとDFTによるリン-シリコンヘテロダイマーの研究2014

    • 著者名/発表者名
      鷺坂恵介
    • 学会等名
      共用・計測 合同シンポジウム2014
    • 発表場所
      物質・材料研究機構
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [学会発表] STM study of phosphorus on Si(100) surface2012

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Sagisaka, Daisuke Fujita, David Bowler
    • 学会等名
      The 10th Japan-Russia Seminar on Semiconductor Surfaces (JRSSS10)
    • 発表場所
      University of Tokyo, Hongo, Tokyo
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書

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公開日: 2013-05-31   更新日: 2019-07-29  

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