| 研究課題/領域番号 |
24540534
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマ科学
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| 研究機関 | 富山大学 |
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研究代表者 |
伊藤 弘昭 富山大学, 大学院理工学研究部(工学), 教授 (70302445)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2014年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2013年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2012年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | パルス重イオンビーム / 両極性パルス / パルスイオン注入 / レーザーイオン源 / パルス電力技術 / プラズマガン / パルス電力応用 / 両極性パルス加速器 / 真空アークプラズマガン / 細線放電イオン源 / パルスパワー技術 |
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| 研究成果の概要 |
次世代省エネルギーデバイス開発に重要なイオン注入と同時にアニール処理が可能な新しいパルスイオン注入法の実現に向けて必要なn型・p型ドーパントの機能を有する高強度パルス重イオンビーム発生技術の開発を行った。n型ドーパントのパルス窒素イオンビームに対しては高出力化、ビームの空間均一性の向上を図った。p型ドーパントとして機能する金属イオン源に対しては真空アークイオン源および細線放電イオン源の電極形状や放電条件による特性評価を行うと共にレーザーイオン源の開発も行った。また、ビームの照射効果においてはアニール効果を検証し、必要な付与エネルギー密度を評価できた。
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