研究課題/領域番号 |
24550231
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
無機工業材料
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研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
岡本 昌樹 東京工業大学, 理工学研究科, 准教授 (10262263)
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研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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配分額 *注記 |
5,590千円 (直接経費: 4,300千円、間接経費: 1,290千円)
2014年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2013年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
2012年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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キーワード | 多孔体 / 中空材料 / ミクロ反応容器 / 中空多孔体 / 二相系反応 / ヒドロホルミル化 / コアーシェル構造体 / コア-シェル構造体 / 塩基処理 / 界面活性剤 |
研究成果の概要 |
中空部を選択的に除去することによる中空メソ多孔体の合成法を開発した.親水性であるメソポーラスシリカのコアの周りに,プロピル基を有する疎水性のメソポーラスシリカを粒子成長させた.その後,陽イオン性界面活性剤の依存下でアンモニア水により,親水性シリカであるコアを選択的に分解した.得られた中空シリカをミクロ反応容器として二相系反応に添加することにより反応速度が増大し,さらにフェニル基で中空シリカ表面を修飾すると,反応速度が3.5倍まで増加した.水相を含んだ中空粒子が油相に相間移動すること,および水相内で中空粒子で囲まれた油滴が形成されることにより界面積が増大し,速度が増加することを明らかにした.
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