| 研究課題/領域番号 |
24560859
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
構造・機能材料
|
|---|
| 研究機関 | 東海大学 |
|---|
研究代表者 |
松村 義人 東海大学, 工学部, 教授 (60239085)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
|
| 配分額 *注記 |
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2014年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2013年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2012年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
|
|---|
| キーワード | アクチュエータ材料 / 薄膜 / プラズマ / 過剰エネルギー / イオン衝撃 / 内部応力 / スパッタリング / イオンプレーティング / 薄膜アクチュエータ / プラズマ計測 / 過飽和固溶体 / 熱応力 / 特性制御 / 磁歪材料 / スパッタ / 磁性材料 |
|---|
| 研究成果の概要 |
１．新規薄膜アクチュエータ用磁性材料の検討；溶質原子を過飽和に固溶させられるイオンプレーティング法によって投入された過剰エネルギーにより過飽和固溶体合金を作製することができた。イオンプレーティング法を用いることで，従来の方法では作製困難な新規薄膜アクチュエータ材料創製の可能性を見出した。
２．薄膜アクチュエータ用磁性材料の特性制御；薄膜特性に大きく影響を及ぼす、薄膜の内部応力に及ぼすイオン衝撃の影響についてイオン衝撃パラメータPiを用いて評価した。ピーニング効果に基づくイオン衝撃パラメータPiを用いて真応力を制御し，成膜時に発生する薄膜の内部応力を制御出来るのではないかと考えられる
|
