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Yゼオライト細孔内部触媒活性制御のための侵入型減圧熱CVDプロセスの開発

研究課題

研究課題/領域番号 24560897
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 材料加工・処理
研究機関秋田工業高等専門学校

研究代表者

佐藤 恒之  秋田工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (80170760)

研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2015-03-31
研究課題ステータス 完了 (2014年度)
配分額 *注記
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2014年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2013年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2012年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
キーワードゼオライト / CVD / 長寿命化 / 細孔径制御 / 成膜速度 / 膜観察 / 減圧系 / ゼオライト細孔 / CVD
研究成果の概要

ゼオライト触媒の長寿命化をめざし、成膜前駆体をゼオライトの細孔内へ侵入させて、成膜することの可能な侵入型減圧熱CVDプロセスの開発を目標とし、2012年から3年間で、CVD時に真空度を連続的に変化させることのできるCVD装置を作製するとともに、その装置による基礎的な成膜実験を行った。1700Pa以下、1000K程度の条件で良質な膜が得られた。今後メカニズム解明とプロセスの最適化が必要である。

報告書

(4件)
  • 2014 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2013 実施状況報告書
  • 2012 実施状況報告書
  • 研究成果

    (1件)

すべて 2014

すべて 学会発表 (1件)

  • [学会発表] 2P094減圧熱CVDを用いたTEOSからのSiO2薄膜の合成2014

    • 著者名/発表者名
      木村雪花、佐藤恒之
    • 学会等名
      平成26年度化学系学協会東北大会
    • 発表場所
      山形大学米沢キャンパス
    • 年月日
      2014-09-20 – 2014-09-21
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書

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公開日: 2013-05-31   更新日: 2019-07-29  

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