| 研究課題/領域番号 |
24560897
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 秋田工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
佐藤 恒之 秋田工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (80170760)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2014年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2013年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2012年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | ゼオライト / ＣＶＤ / 長寿命化 / 細孔径制御 / 成膜速度 / 膜観察 / 減圧系 / ゼオライト細孔 / CVD |
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| 研究成果の概要 |
ゼオライト触媒の長寿命化をめざし、成膜前駆体をゼオライトの細孔内へ侵入させて、成膜することの可能な侵入型減圧熱CVDプロセスの開発を目標とし、2012年から3年間で、CVD時に真空度を連続的に変化させることのできるCVD装置を作製するとともに、その装置による基礎的な成膜実験を行った。1700Pa以下、1000K程度の条件で良質な膜が得られた。今後メカニズム解明とプロセスの最適化が必要である。
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