| 研究課題/領域番号 |
24560898
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
材料加工・処理
|
|---|
| 研究機関 | 山口東京理科大学 (2013-2014)
呉工業高等専門学校 (2012) |
|---|
研究代表者 |
吉村 敏彦 山口東京理科大学, 工学部, 教授 (20353310)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
|
| 配分額 *注記 |
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2014年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2013年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2012年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
|
|---|
| キーワード | メカノケミカルキャビテーション / 表面不活性化 / 耐食性 / 低放出ガス化 / レアメタル / リサイクル 技術 / 表面界面制御 / リサイクル技術 |
|---|
| 研究成果の概要 |
メカノケミカルキャビテーション(MC)による機械的処理と化学的処理を同時に行い、両者の相乗効果による信頼性の高い表面・界面制御技術を開発した。炭素鋼の高湿度試験や水浸漬試験おいて、MC処理により腐食ピット数が減少し、最も赤錆の発生を抑制できることが明らかになった。超高真空部材の低放出ｶﾞｽ化技術の開発では、炭素鋼のMC処理によって、水素や水、二酸化炭素等の脱離ピークが小さくなり、最も放出ｶﾞｽの低減効果があることが分かった。液晶ﾊﾟﾈﾙのﾚｱｱｰｽ回収技術の開発では、MC処理(王水)は、インジウムを主成分とするITO膜が塗布された液晶パネルからITO膜を剥離させる効果が高いことを明らかにした。
|
