| 研究課題/領域番号 |
24560928
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
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| 研究機関 | 山口大学 |
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研究代表者 |
田中 一宏 山口大学, 理工学研究科, 准教授 (30188289)
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| 研究分担者 |
熊切 泉 山口大学, 大学院理工学研究科, 准教授 (20618805)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2014年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2013年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2012年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | 水素製造 / 水素分離膜 / ポリイミド膜 / 炭化膜 / 光触媒 / 水素製造法 / 光触媒水素製造 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では水素と酸素を室温付近で高効率分離するための分離膜の開発を行った。目標性能は分離係数が100、水素透過速度が100であった。ここで、分離係数は単位のない無次元数、透過速度は膜面積1m2、圧力差1Paあたり、1秒間に膜を透過する水素のモル数の10の10乗倍である。主に3種類の分離膜について検討した。それぞれの最高性能は、紫外線照射により架橋する高分子の薄膜が分離係数77、透過速度6であった。炭素薄膜は分離係数26、透過速度35であった。分離性の高いシリカ膜を得ることはできなかった。架橋高分子薄膜と炭素膜の2種類において、目標を超える性能の分離膜の作製条件を絞り込むことができた。
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