| 研究課題/領域番号 |
24560930
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
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| 研究機関 | 工学院大学 |
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研究代表者 |
並木 則和 工学院大学, 工学部, 教授 (40262555)
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| 研究分担者 |
鍵 直樹 東京工業大学, 大学院情報理工学研究科, 准教授 (20345383)
徳永 健 工学院大学, 基礎・教養教育部門, 准教授 (30467873)
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| 研究協力者 |
守田 辰夫
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2014年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2013年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2012年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | 高分子両性電解質 / 揮発性有機化合物 / 排ガス処理 / 液噴霧法 / 変調電磁場法 / 一流体スプレーノズル / 静電スプレー法 / 離散液滴モデル（DDM）法 / 吸着 / 静電噴霧法 |
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| 研究成果の概要 |
ポリアクリルアミド両性電解質（APA）の水溶液を噴霧することで，様々な工場の排ガス中の低濃度（100ppm未満）の揮発性有機化合物（VOC)を処理する手法が注目されている。本研究では，圧縮空気を必要としない一流体ノズルを用いた高性能でコンパクトなVOC処理システムを開発するため，一流体ノズルの除去性能の向上を試みた。その結果，静電スプレー法または変調磁場法を適用することで性能が向上した。さらに，数値流体力学計算による噴霧液滴の解析と物質収支モデルを併用することで，液滴表面のAPAの被覆率（α）をパラメータとして，α=0.18とすることで本装置のVOC除去性能の推定することが可能となった。
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