| 研究課題/領域番号 |
24590723
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
疼痛学
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| 研究機関 | 千葉大学 |
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研究代表者 |
山浦 克典 千葉大学, 薬学研究科(研究院), 准教授 (10543069)
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| 研究協力者 |
諏訪 映里子
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円)
2014年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2013年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2012年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | H4受容体拮抗薬 / ステロイド長期塗布誘発掻痒 / プロスタグランジンD2 (PGD2) / ケラチノサイト / サブスタンスP (SP) / ヒスタミン / マウス / 正常ヒト角化細胞 (NHEK) / 掻痒 / デキサメタゾン (DEX) / H4受容体アンタゴニスト (H4RA) / 一酸化窒素 (NO) / dexamethasone / H4受容体アンタゴニスト / ロイコトリエンB4 (LTB4) / LTA4 hydrolase inhibitor / サブスタンスP急性掻痒 / 痒み |
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| 研究成果の概要 |
アトピー性皮膚炎をはじめとする、痒み症状を伴う慢性皮膚疾患では、長期間にわたる外用ステロイド療法は必要不可欠となる。一方、申請者は、ステロイド外用剤を反復塗布すること自体が、痒みの原因となり得ることを報告してきた。ヒスタミンの４番目の受容体を阻害するH4受容体拮抗薬は、ステロイド外用薬の抗炎症作用を高め、且つ、ステロイドが引き起す痒みを改善することを本研究により明らかにした。H4受容体拮抗薬は、長期ステロイド外用療法をより安全に実施する上で有効な治療薬となり得ると考えられた。
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