| 研究課題/領域番号 |
24651114
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
ナノ構造科学
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
木村 健二 京都大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (50127073)
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| 研究分担者 |
長谷川 雅考 産業技術研究所, 主任研究員 (20357776)
中嶋 薫 京都大学, 大学院工学研究科, 助教 (80293885)
鳴海 一雅 日本原子力研究開発機構, 主幹研究員 (90354927)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2013年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2012年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | ナノ細孔 / フラーレンイオン / スパッタリング / イオントラック / シリコン窒化膜 |
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| 研究概要 |
非晶質の窒化シリコン薄膜（厚さ20nm）に120keVないし5MeVのC60イオンを照射して、透過電子顕微鏡で観察したところ、照射痕であるイオントラックが明瞭に観測された。半定量的な評価のために、高角度暗視野透過型走査電子顕微鏡観察を行ったところ、トラック内部は約30%程度密度が低下していることが分かった。さらに、540 keVのC60イオン照射によるスパッタリング収量を高分解能ラザフォード後方散乱法により測定したところ、C60イオン1個につき5400個もの原子がスパッタされていることが分かった。これらの結果は、照射条件を最適化することによりナノ細孔を薄膜に直接形成できる可能性を示している。
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