研究課題
挑戦的萌芽研究
イメージセンサ等にモノリシックに搭載可能な集積回路プロセスの配線層を応用したオンチップ光学素子の設計・試作を行なった.オンチップ光学素子はイメージセンサ用画素上に作製された金属グレーティング構造であり,偏光分離特性・波長依存性を有する.近年の先端CMOSプロセスを用いることにより,配線層を用いた金属グレーティングピッチは可視光波長より十分小さくすることが可能である.65nmプロセスを用いて設計することにより,約100程度の消光比を得ることに成功した.
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すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (17件) (うち招待講演 2件) 備考 (1件)
Optics Express
巻: 21 号: 9 ページ: 11132-11140
10.1364/oe.21.011132
The Journal of Engineering
巻: 2013 号: 9 ページ: 1-3
10.1049/joe.2013.0033
http://mswebs.naist.jp/LABs/pdslab/index-j.html