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ターゲットを均一に利用する無磁場マイクロ波スパッタ製膜

研究課題

研究課題/領域番号 24654189
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 プラズマ科学
研究機関名古屋大学

研究代表者

豊田 浩孝  名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (70207653)

研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2014-03-31
研究課題ステータス 完了 (2013年度)
配分額 *注記
3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
2013年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2012年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
キーワードマイクロ波 / スパッタ / 表面波 / 均一プラズマ
研究概要

本研究は、従来のスパッタ法にはない新しいスパッタ装置として、低圧力で均一な無磁場マイクロ波プラズマ生成を利用し、2次元的に面内均一にスパッタ成膜をおこなう装置の実現のための指針を得ることを目的とする。その結果、マイクロ波を用いた低圧力でのプラズマ維持に成功し、さらに高周波電力を重畳印加することにより、10cm四方にわたり誘電体材料の均一なスパッタ成膜に成功した。これは、従来の磁場を用いたスパッタ成膜では実現できない革新的な成果であり、今後さまざまな電子デバイス形成における応用が期待できる。

報告書

(3件)
  • 2013 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2012 実施状況報告書
  • 研究成果

    (15件)

すべて 2014 2013 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (12件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] 酸化物ターゲットを用いたRFマグネトロンプラズマにおける高エネルギー粒子の挙動2014

    • 著者名/発表者名
      豊田浩孝
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Society of Japan

      巻: Vol. 57No.3 ページ: 80-83

    • NAID

      130003394506

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [雑誌論文] 酸化物ターゲットを用いたRFマグネトロンプラズマにおける高エネルギー粒子の挙動2014

    • 著者名/発表者名
      豊田 浩孝
    • 雑誌名

      Journal of the Vacuum Society of Japan

      巻: 57, No.3 ページ: 80-83

    • NAID

      130003394506

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System by RF and Microwave Power Superposition2014

    • 著者名/発表者名
      Hagihara, T. Noda and H. Toyoda
    • 学会等名
      8^<th> Int. Conf. on Reactive Plasmas
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Magnet-Free Sputtering System Using Surface Wave Plasma2014

    • 著者名/発表者名
      T. Hagihara, T. Noda and H. Toyoda
    • 学会等名
      2014 Int. Sympo. on Plasma and Its Application to Nitride and Nanomaterials
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition2013

    • 著者名/発表者名
      T. Noda and H. Toyoda
    • 学会等名
      35^<th> Int. Sympo. Dry Process
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition with Surface-wave Excited Plasma2013

    • 著者名/発表者名
      Noda and H. Toyoda
    • 学会等名
      66^<th> Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Princeton, USA
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System for Dielectric Film Deposition

    • 著者名/発表者名
      Tomonori Noda, and Hirotaka Toyoda
    • 学会等名
      35th International Symposium on Dry Process
    • 発表場所
      Ramada Plaza Jeju Hotel (Jeju, Korea)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition with Surface-Wave Excited Plasma

    • 著者名/発表者名
      T. Noda,T. Hagihara, H. Toyoda
    • 学会等名
      66th Annual Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Westin Hotel ( Princeton, New Jersey, USA)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System by RF and Microwave Power Superposition

    • 著者名/発表者名
      Toshiya Hagihara, Tomonori Noda, Hirotaka Toyoda
    • 学会等名
      ICRP-8/SPP-3
    • 発表場所
      Fukuoka Convention Center (Fukuoka, Japan)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Magnet-Free Sputtering System Using Surface Wave Plasma

    • 著者名/発表者名
      Toshiya Hagihara, Tomonori Noda and Hirotaka Toyoda
    • 学会等名
      ISPlasma2014/IC-PLANTS2014
    • 発表場所
      Meijo University (Nagoya, Japan)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] 低圧環境下における高密度マイクロ波プラズマの生成

    • 著者名/発表者名
      野田 智紀,中坊 将人,豊田 浩孝
    • 学会等名
      平成24年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      豊橋技術科学大学(愛知県)
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] Production of Surface-Wave Excited Plasma in Low Pressures

    • 著者名/発表者名
      T.Noda, M. Nakabo and H. Toyoda
    • 学会等名
      5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
    • 発表場所
      名古屋大学(愛知県)
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] Surface-Wave Excited Plasma Produced in Low Pressures

    • 著者名/発表者名
      T. Noda, M. Nakabo and H. Toyoda
    • 学会等名
      6th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science
    • 発表場所
      下呂交流会館(岐阜県)
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] 低圧環境下における無磁場マイクロ波プラズマ生成と応用

    • 著者名/発表者名
      野田 智紀,中坊 将人,豊田 浩孝
    • 学会等名
      第60回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [産業財産権] スパッタ成膜装置2013

    • 発明者名
      笹井建典、豊田浩孝
    • 権利者名
      東海ゴム工業株式会社、名古屋大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2013-015453
    • 出願年月日
      2013-01-30
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書

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公開日: 2013-05-31   更新日: 2019-07-29  

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