| 研究課題/領域番号 |
24655188
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
吉本 護 東京工業大学, 総合理工学研究科(研究院), 教授 (20174998)
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| 連携研究者 |
松田 晃史 東京工業大学, 大学院総合理工学研究科, 講師 (80621698)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2013年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2012年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | 原子パターン / ナノインプリント / 天然素材 / 非晶質 / ガラス / ポリマー / 精密転写 / ナノ加工 / 原子レベルパターン / 転写 / 表面ナノ加工 / 超精密加工 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では熱ナノインプリントを利用して、天然物表面ナノ構造の原子レベル転写を検討した。酸化物ガラスやアクリルなどの有機系非晶質基板を加熱しながら、サファイア単結晶鉱物の原子ステップ形状や雲母劈開面における六角形状の原子レベル天然ナノ構造パタ－ンを有する鋳型を、基板表面上に適当な圧力で押し付けた。その結果、石英ガラス基板およびアクリル、ポリカーボネート、ポリイミドなどの樹脂基板上に、0.3nm程度の原子ステップ配列パターンを形成することに成功した。さらに、ソーダライムシリカガラス基板上に、雲母劈開面における約0.5nm間隔の周期的な凹凸パターンを転写することができた。
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