| 研究課題/領域番号 |
24655191
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 名古屋工業大学 |
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研究代表者 |
高井 千加 名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 研究員 (30599056)
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| 連携研究者 |
藤 正督 名古屋工業大学, 工学研究科, 教授 (50238523)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2013年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
2012年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
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| キーワード | ナノ粒子 / シリカ / スケルトン / スケルトン粒子 / 光学 / ナノ / 薄膜 / 光散乱 |
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| 研究概要 |
スケルトン構造を持つナノシリカ粒子が高い光学特性を発揮することを偶然発見した。スケルトン粒子が、ナノサイズであることと、スケルトン構造であることに起因する特性であると考えられるが、現在の光学特性理論では説明できない。本研究では、スケルトンシリカ粒子の構造、微細構造の違いと、粒子の光学特性に与える影響について整理し、これをもとにスケルトン粒子の補正光学特性理論を構築することを目的とする。
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