| 研究課題/領域番号 |
24656201
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
小田 俊理 東京工業大学, 量子ナノエレクトロニクス研究センター, 教授 (50126314)
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| 研究分担者 |
小寺 哲夫 東京工業大学, 量子ナノエレクトロニクス, 助教 (00466856)
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| 研究期間 (年度) |
2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2012年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
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| キーワード | 薄膜 / 量子構造 / DNAオリガミ / UVオゾン処理 / 非接触AFM / ナノデバイス / 単電子デバイス / 微細パターン形成 |
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| 研究概要 |
DNA技術を利用したボトムアップ技術は、自己組織的に極微細構造を形成できるばかりでなく、電極や配線も含めた回路機能をナノスケールで形成できる可能性がある。シリコン基板上にDNAオリガミを形成し、基板表面の状態がDNAパターン形成に重要な影響を与えること、UVオゾン処理が有効であることを明らかにした。また、2重結合量子ドットと単電子トランジスタを集積化したナノデバイスの電極配置と評価法について検討を行った。
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