• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

半導体コンタクトを用いたグラフェンチャネルトランジスタの電流制御

研究課題

研究課題/領域番号 24656204
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関北陸先端科学技術大学院大学

研究代表者

徳光 永輔  北陸先端科学技術大学院大学, グリーンデバイス研究センター, 教授 (10197882)

研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2014-03-31
研究課題ステータス 完了 (2013年度)
配分額 *注記
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2013年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2012年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
キーワードグラフェン / シリコンカーバイド / トランジスタ / 半導体コンタクト / 単極性動作 / SiC
研究概要

グラフェンは高い移動度を持つことから次世代電子デバイス応用への期待が高いが、バンドギャップが0であるために、正の電圧を印加しても負の電圧を印加しても電流の流れる両極性動作を示し、ドレイン電流のオンオフ比が大きくできないという問題点がある。本研究では、従来の金属にかわり半導体であるSiCをソース・ドレインに用いることにより、グラフェンチャネルトランジスタの単極性動作を実現し、3桁以上の大きなオンオフ比を得ることに成功した。大きなオンオフ比を得るためにはグラフェンとSiCの界面特性を改善することが重要との知見が得られた。

報告書

(3件)
  • 2013 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2012 実施状況報告書
  • 研究成果

    (12件)

すべて 2013 2012

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (10件) (うち招待講演 2件)

  • [雑誌論文] Unipolar behavior in grapheme-channel field-effect-transistors with n-type doped SiC source/drain regions2013

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Nagahisa, Yuichi Harada, and Eisuke Tokumitsu
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: vol.103, No.22

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書 2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Suppression of Hole Current in Graphene Transistors with N-Type Doped SiC Source/Drain Regions2012

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Nagahisa, Eisuke Tokumitsu
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: Vol.717-720 ページ: 679-682

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書 2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Fabrication of 4H-SiC MOSFETs Using Stacked Al_2O_3 Gate Insulator with Pre-Annealed Al_2O_3 Buffer Layer2013

    • 著者名/発表者名
      H.Yamada, S.Hino, N.Miura, M.Imaizumi, S.Yamakawa, and E.Tokumitsu
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2013
    • 発表場所
      Phoenix Seagaia Resort, Miyazaki, Japan(We-P-25, Poster, Oct.2)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrical characterization of gate modulation in graphene/n-SiC contacts2013

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Nagahisa, Eisuke Tokumitsu
    • 学会等名
      5th International conference on Recent Progress in Graphene Research
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Use of low- temperature-deposited high-k gate insulators for SiC power MOSFETs2013

    • 著者名/発表者名
      Eisuke Tokumitsu
    • 学会等名
      Collaborative Conference on 3D & Materials Research (CC3DMR) 2013
    • 発表場所
      Ramada Jeju, Jeju, Korea(492)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Observation of High on/off Drain Current Ratio in Graphene Transistors with n-type doped SiC Source/Drain Regions2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Nagahisa, Y.Harada, E.Tokumitsu
    • 学会等名
      Graphene Week 2013, GW2013-142
    • 発表場所
      Chemnitz, Germany(TuP-27, Poster発表4 June)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrical characterization of gate modulation in graphene/n-SiC contacts2013

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Nagahisa, Eisuke Tokumitsu
    • 学会等名
      5th International conference on Recent Progress in Graphene Research
    • 発表場所
      Tokyo Institute of Technology, Tokyo
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Fabrication of 4H-SiC MOSFETs Using Stacked Al2O3 Gate Insulator with Pre-Annealed Al2O3 Buffer Layer2013

    • 著者名/発表者名
      H.Yamada, S.Hino, N.Miura, M.Imaizumi, S.Yamakawa, and E.Tokumitsu
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2013
    • 発表場所
      Phoenix Seagaia Resort, Miyazaki
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Use of low-temperature-deposited high-k gate insulators for SiC power MOSFETs2013

    • 著者名/発表者名
      Eisuke Tokumitsu
    • 学会等名
      Collaborative Conference on 3D & Materials Research (CC3DMR) 2013
    • 発表場所
      Ramada Jeju, Jeju, Korea
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Observation of High on/off Drain Current Ratio in Graphene Transistors with n-type doped SiC Source/Drain Regions2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Nagahisa, Y.Harada, E. Tokumitsu
    • 学会等名
      Graphene Week 2013
    • 発表場所
      City Hall, Chemnitz, Germany
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Comparative Study of Metalorganic Chemical Vapour Deposition of HfO_2 and Al_2O_3 Gate Insulators on SiC for Power MOSFET Applications2012

    • 著者名/発表者名
      Eisuke Tokumitsu, Isahaya Yamamura, Shiro Hino, Naruhisa Miura, Masayuki Imaizumi, Hiroaki Sumitani and Tatsuo Oomori
    • 学会等名
      WoDiM 2012(17th Workshop on Dielectrics in Microelectronics)
    • 発表場所
      Dresden, Germany(Poster)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Characterization of Electrical Properties of Graphene/n-SiC Contacts2012

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Nagahisa, Yuichi Harada, and Eisuke Tokumitsu
    • 学会等名
      3rd International Symposium on Graphene Devices
    • 発表場所
      Saint-Aubin, France
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書

URL: 

公開日: 2013-05-31   更新日: 2019-07-29  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi