研究課題/領域番号 |
24656453
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研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
金属生産工学
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研究機関 | 東北大学 |
研究代表者 |
佐藤 讓 東北大学, 工学(系)研究科(研究院), 名誉教授 (80108464)
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研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2014-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2013年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2012年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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キーワード | 耐熱合金 / ニオブ基合金 / 珪化物 / 耐酸化性被膜 / 表面処理 / 溶融塩電解 / 電気化学 / 溶融塩 / 電解 / 耐熱材料 / 耐酸化被覆 / コーティング / NbSi2 / 耐酸化性皮被膜 / 珪化ニオブ |
研究概要 |
本研究は、溶融塩電解法を用いてニオブ(Nb)基合金に緻密かつ強固な耐酸化性珪化物被膜を付与するために、溶融塩中でのイオンの電気化学挙動を検討し、最適な電解条件を探ることを目標としたものである。その結果、電流密度は低く(10 mA cm-2)、電解温度は高い(1173 K)方が厚い膜が生成することが分かった。溶質(シリコン)濃度は膜厚成長に大きく影響しなかった。最終的に、55~70 micronのNbSi2被膜を形成することに成功した。
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