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次世代オプトエレクトロニクス基板の原子スケール平坦化技術の開発

研究課題

研究課題/領域番号 24760110
研究種目

若手研究(B)

配分区分基金
研究分野 生産工学・加工学
研究機関近畿大学 (2014)
立命館大学 (2012-2013)

研究代表者

村田 順二  近畿大学, 理工学部, 講師 (70531474)

研究協力者 服部 梓  大阪大学, 産業科学研究所, 助教
研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2015-03-31
研究課題ステータス 完了 (2014年度)
配分額 *注記
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2013年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
2012年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
キーワード窒化ガリウム / 研磨加工 / 触媒 / エッチング / 研磨 / 平坦化 / 発光特性 / 精密研磨
研究成果の概要

本研究では,触媒を用いた化学エッチングを応用した微粒子・薬液フリー平坦化法を開発し,既存の技術では実現することが困難であったダメージレス超平坦GaN表面を高能率かつ安定的に創生することを目的とした研究開発を実施した.その結果、2インチ基板の全面にわたって既存の技術では到達が困難である原子レベルの平坦な表面が得られた。また、加工時間を数十時間から60分程度までに短縮することができた。本加工法によって得られたGaN表面は優れた結晶性や発光特性、電気特性を有することが明らかとなった。

報告書

(4件)
  • 2014 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2013 実施状況報告書
  • 2012 実施状況報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて 2015 2014 2013 2012

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件、 謝辞記載あり 1件) 図書 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Photo-electrochemical etching of free-standing GaN wafer surfaces grown by hydride vapor phase epitaxy2015

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Shun Sadakuni
    • 雑誌名

      Electrochimica Acta

      巻: 掲載決定 ページ: 89-95

    • DOI

      10.1016/j.electacta.2015.04.166

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments2014

    • 著者名/発表者名
      Azusa N. Hattori et al.
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 53 号: 2 ページ: 0210011-5

    • DOI

      10.7567/jjap.53.021001

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書 2013 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Bias-assisted photochemical planarization of GaN (0001) substrate with damage layer2013

    • 著者名/発表者名
      定國 峻
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: VOL.. 52 号: 3R ページ: 365041-365044

    • DOI

      10.7567/jjap.52.036504

    • NAID

      40019617091

    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structural and chemical characteristics of atomically smooth GaN surfaces prepared by abrasive-free polishing with Pt catalyst2012

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Shun Sadakuni, Takeshi Okamoto, Azusa N. Hattori, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 349 号: 1 ページ: 83-88

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2012.04.007

    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [図書] 生産加工入門2014

    • 著者名/発表者名
      谷泰弘、村田順二
    • 総ページ数
      191
    • 出版者
      数理工学社
    • 関連する報告書
      2013 実施状況報告書
  • [産業財産権] 研磨具及び研磨装置2013

    • 発明者名
      佐野泰久、山内和人、村田順二、岡本武志、定國峻、八木圭太
    • 権利者名
      大阪大学、荏原製作所
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2013-10-16
    • 取得年月日
      2015-01-23
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書

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公開日: 2013-05-31   更新日: 2019-07-29  

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