研究課題/領域番号 |
24760110
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研究種目 |
若手研究(B)
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配分区分 | 基金 |
研究分野 |
生産工学・加工学
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研究機関 | 近畿大学 (2014) 立命館大学 (2012-2013) |
研究代表者 |
村田 順二 近畿大学, 理工学部, 講師 (70531474)
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研究協力者 |
服部 梓 大阪大学, 産業科学研究所, 助教
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研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2013年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
2012年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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キーワード | 窒化ガリウム / 研磨加工 / 触媒 / エッチング / 研磨 / 平坦化 / 発光特性 / 精密研磨 |
研究成果の概要 |
本研究では,触媒を用いた化学エッチングを応用した微粒子・薬液フリー平坦化法を開発し,既存の技術では実現することが困難であったダメージレス超平坦GaN表面を高能率かつ安定的に創生することを目的とした研究開発を実施した.その結果、2インチ基板の全面にわたって既存の技術では到達が困難である原子レベルの平坦な表面が得られた。また、加工時間を数十時間から60分程度までに短縮することができた。本加工法によって得られたGaN表面は優れた結晶性や発光特性、電気特性を有することが明らかとなった。
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