アモルファス炭素膜の重水素終端による電子欠陥低減により拓かれる電子応用

• 研究課題/領域番号: 24760254
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 電子・電気材料工学
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 赤坂 大樹 東京工業大学, 理工学研究科, 准教授 (80500983)
• 研究期間 (年度): 2012-04-01 – 2014-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2013年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2013年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円); 2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
• キーワード: アモルファス炭素系膜 / 重水素 / 同位体効果 / 電子欠陥密度低減 / アモルファス炭素膜

研究概要

重水素の持つ同位体効果を利用し, アモルファス炭素系膜の電子欠陥密度を重水素により低減することを試みた．通常のメタン及び重水素化メタンを用いてアモルファス炭素膜を合成し, 電子欠陥密度を比較・評価した. この結果, 全く同じ手法で作製した膜でその上, 炭素のsp2/sp3比率が同等な構造の類似した膜においてもその電子欠陥密度に違いがあることが示された. 重水素化膜の方が電子欠陥密度が10**18個/cm3と水素化膜に比べて約1桁低く、重水素によるアモルファス炭素系膜内の電子欠陥密度を低減できることを示した.

研究成果

• [学会発表] Isotopic influence on amorphous carbon films (2014)
  • 著者名/発表者名: Yutaro Suzuki, Tsuneo Suzuki, Kazuhiro Kanda, Naoto Ohtake, Hiroki Akasaka
  • 学会等名: The 15th International Union of Materials Research Societies, International Conference in Asia
  • 発表場所: 福岡大学
• [学会発表] 物理気相成長法によるアモルファス同位体炭素膜の作製 (2014)
  • 著者名/発表者名: 鈴木裕太郎, 藤井瞭, 大竹尚登, 赤坂大樹
  • 学会等名: 第61回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 青山学院大学
• [学会発表] 物理気相成長法によるアモルファス同位体炭素膜の作製 (2014)
  • 著者名/発表者名: 鈴木裕太郎，藤井 瞭，大竹尚登，赤坂大樹
  • 学会等名: 第６１回応用物理学会春季学術講演会（
  • 発表場所: 青山学院大学
• [学会発表] Isotopic influence on amorphous carbon films (2014)
  • 著者名/発表者名: Yutaro Suzuki, Tsuneo Suzuki, Kazuhiro Kanda, Naoto Ohtake1, Hiroki Akasaka
  • 学会等名: IUMRS-ICA2014
  • 発表場所: Fukuoka Univ., Japan
• [学会発表] ^<13>Cターゲットからのアモルファス炭素膜の作製 (2013)
  • 著者名/発表者名: 鈴木裕太郎, 藤井瞭, 斎藤啓, 大竹尚登, 赤坂大樹
  • 学会等名: 第27回ダイヤモンドシンポジウム
  • 発表場所: 日本工業大学
• [学会発表] Deposition of stable isotopic amorphous carbon films from isotopic methane gases (2013)
  • 著者名/発表者名: Yutaro Suzuki, Tsuneo Suzuki, Naoto Ohtake, Hiroki Akasaka
  • 学会等名: 21st International Symposium on Plasma Chemistry
  • 発表場所: Cairns Convention Centre (Australia)
• [学会発表] 同位体原料からのアモルファス炭素膜の作製 (2013)
  • 著者名/発表者名: 鈴木裕太郎, 鈴木常生, 大竹尚登, 赤坂大樹
  • 学会等名: 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学
• [学会発表] 同位体メタン系ガスを用いたアモルファス炭素膜の作製 (2013)
  • 著者名/発表者名: 鈴木裕太郎, 鈴木常生, 大竹尚登, 赤坂大樹
  • 学会等名: 精密工学会2013年度春季大会
  • 発表場所: 東京工業大学
• [学会発表] Deposition of stable isotopic amorphous carbon films from isotopic methane gases (2013)
  • 著者名/発表者名: Yutaro Suzuki, Tsuneo Suzuki, Naoto Ohtake1, Hiroki Akasaka
  • 学会等名: 21st International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 21)
  • 発表場所: Cairns Convention Centre, Queensland, Australia
• [学会発表] 13Cターゲットからのアモルファス炭素膜の作製 (2013)
  • 著者名/発表者名: 鈴木裕太郎，藤井 瞭，斎藤 啓，大竹尚登，赤坂大樹
  • 学会等名: 第２７回ダイヤモンドシンポジウム
  • 発表場所: 日本工業大学
• [学会発表] 同位体メタン系ガスを用いたアモルファス炭素膜の作製 (2013)
  • 著者名/発表者名: 鈴木裕太郎，鈴木常生，大竹尚登，赤坂大樹
  • 学会等名: 精密工学会2013年度春季大会
  • 発表場所: 東京工業大学(東京都目黒区)
• [学会発表] 同位体原料からのアモルファス炭素膜の作製 (2013)
  • 著者名/発表者名: 鈴木 裕太郎，鈴木 常生，大竹 尚登，赤坂 大樹
  • 学会等名: 2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学(神奈川県厚木市)