| 研究課題/領域番号 |
24810027
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| 研究種目 |
研究活動スタート支援
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
ナノ構造科学
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| 研究機関 | 神奈川大学 |
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研究代表者 |
石田 良仁 神奈川大学, 工学部, 助手 (90635137)
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| 研究期間 (年度) |
2012-08-31 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2013年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2012年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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| キーワード | ブロック共重合体 / 自己解重合 / 光分解 / 重縮合 / 原子移動ラジカル重合 / 光反応 / ポリウレタン / ポリアセタール / 解重合 / 自己組織化 / 自己分解反応 / ナノ構造作製 |
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| 研究概要 |
数十ナノメートルの周期で規則的な自己組織化構造を形成することのできるブロック共重合体の一方に、光により自発的に分解する部位を導入した新規ブロック共重合体を合成した。目的とするブロック共重合体の合成は縮合反応による末端修飾芳香族ポリウレタンの合成とそのポリウレタン末端からの原子移動ラジカル重合(ATRP)によるポリメチルメタクリレート(PMMA)の導入によって行った。得られたブロック共重合体に紫外線(365 nm)を照射することにより、芳香族ポリウレタンの末端からポリマーの分解が起こり、ポリウレタン成分のみが選択的に分解し、PMMAのみが優先的に残存したことが示唆された。
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