研究課題/領域番号 |
24H00434
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研究種目 |
基盤研究(A)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
中区分30:応用物理工学およびその関連分野
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研究機関 | 東京工芸大学 |
研究代表者 |
豊田 光紀 東京工芸大学, 工学部, 教授 (40375168)
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研究分担者 |
津留 俊英 山形大学, 地域教育文化学部, 教授 (30306526)
浅川 直紀 群馬大学, 大学院理工学府, 教授 (80270924)
高田 昌樹 東北大学, 国際放射光イノベーション・スマート研究センター, 教授 (60197100)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2028-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
47,450千円 (直接経費: 36,500千円、間接経費: 10,950千円)
2024年度: 9,360千円 (直接経費: 7,200千円、間接経費: 2,160千円)
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キーワード | 多層膜ミラー / 軟X線 / リソグラフィ |
研究開始時の研究の概要 |
本研究では、独自に考案した多層膜ミラー構造のLayer by layer化学エッチング法を用い極紫外(EUV)領域において10pm精度で波面を制御する新手法を開発する。開発の目的は、Beyond EUVリソや顕微鏡応用の実用フェーズを見据え、大開口数化や短波長化により10nmの高い空間分解能をもつEUV多層膜ミラー結像系を初めて実現することにある。これにより、ミラー基板の形状誤差が制限する空間分解能を向上すると同時に、回折限界結像が可能なエネルギー領域を、半導体製造や顕微鏡応用に必須の軽元素の内殻吸収端に合わせた高エネルギー領域(ホウ素・炭素・水の窓200-500eV領域)へ拡張できる。
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