| 研究課題/領域番号 |
24H00443
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
中区分31:原子力工学、地球資源工学、エネルギー学およびその関連分野
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
古澤 孝弘 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20251374)
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| 研究分担者 |
室屋 裕佐 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (40334320)
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| 研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2029-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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| 配分額 *注記 |
47,450千円 (直接経費: 36,500千円、間接経費: 10,950千円)
2024年度: 10,920千円 (直接経費: 8,400千円、間接経費: 2,520千円)
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| キーワード | 放射線、X線、粒子線 / 半導体超微細化 / シミュレーション工学 / 計算物理 / データ科学 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
半導体製造において電離放射線領域にある極端紫外光によるリソグラフィが実現され、これまで露光源の短波長化が進められてきた微細加工分野はついに電離放射線時代に突入した。しかしながら、電離放射線は透過力が高く、材料へのエネルギー付与効率が極めて低い。微細加工分野において電離放射線利用をさらに拡大するために、有機金属薄膜に電離放射線が誘起する化学反応の解明を行う。
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