| 研究課題/領域番号 |
24H00480
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
中区分36:無機材料化学、エネルギー関連化学およびその関連分野
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
大友 明 東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (10344722)
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| 研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2027-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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| 配分額 *注記 |
49,140千円 (直接経費: 37,800千円、間接経費: 11,340千円)
2024年度: 29,510千円 (直接経費: 22,700千円、間接経費: 6,810千円)
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| キーワード | 薄膜電子材料 / エピタキシー / 電気化学 / 界面物性 / 超伝導材料・素子 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
研究代表者らは，リチウムイオンの電気化学な脱挿入に伴うキャリアドープを酸化物に適用すると，さまざまな電子相転移が引き起こされることを明らかにしてきた。本研究では，多様な結晶構造や原子価をとる遷移金属酸化物の準安定相を積層した構造を薄膜技術によって作製し，積層構造の界面における電子状態を電気化学セル中でその場観測・解析し，新奇なふるまいの実証とそれらの機能開拓を目的とする。また，これにより新たな電気伝導性，磁性，光学特性を発現する界面構造の創製を目指す。
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