汎用SEMとステンシルマスクを用いた近接転写による簡易電子線リソグラフィ法の開発

• 研究課題/領域番号: 24H02574
• 研究種目: 奨励研究
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 2180:ナノマイクロ科学、応用物理物性、応用物理工学、原子力工学、地球資源工学、エネルギー学、人間医工学およびその関連分野
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 佐藤 美那 東京工業大学, オープンファシリティセンター, 技術職員
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2025-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 470千円 (直接経費: 470千円); 2024年度: 470千円 (直接経費: 470千円)

研究開始時の研究の概要

本研究は，レジストを塗布した基板上にステンシルマスクを重ねたものを汎用SEM 内に設置し露光する簡易的な電子線リソグラフィプロセスの開発を目的とする．密着露光の光リソグラフィでは不可能なサブミクロンサイズの露光を汎用SEM とステンシルマスクのみで実施する．既存の汎用装置を利用することから，価格面での障壁が低く，光リソグラフィの密着露光のような簡便さで電子線リソグラフィが可能となることを目指す．