研究課題
基盤研究(B)
本研究では,磁性絶縁体/トポロジカル絶縁体の積層構造を用いた磁気トポロジカル絶縁体(Magnetic Topological Insulator, MTI) 素子の電子状態・磁気相互作用をデザインすることで,室温以上のキュリー点,磁気ギャップ開放,スピントルク増強を促し,室温動作MTIを用いた高性能磁気デバイスを創出する.