クロススリット型ダブルエマルション量産技術の基盤研究

• 研究課題/領域番号: 24K01244
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分27020:反応工学およびプロセスシステム工学関連
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 西迫 貴志 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 准教授 (10431983)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 18,590千円 (直接経費: 14,300千円、間接経費: 4,290千円); 2026年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円); 2025年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円); 2024年度: 10,140千円 (直接経費: 7,800千円、間接経費: 2,340千円)
• キーワード: マイクロプロセス

研究開始時の研究の概要

近年，マイクロ流路を用いた単分散ダブルエマルションの生成法が注目されている．しかし単一流路の極めて低い生産性とマイクロ流路集積化の困難さが，生産技術としての本手法の幅広い普及を妨げている．そこで本研究では，マイクロ流路アレイとスリット状流路を組み合わせた構造によるダブルエマルション生成技術の研究を実施する．3次元流体解析，微細加工，液滴生成試験，を組合せ，当該技術を単分散ダブルエマルションおよび機能性粒子の生産技術として展開するための研究基盤を確立する．