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超高温エピタキシー技術を用いた界面創発磁気輸送現象の学理構築

研究課題

研究課題/領域番号 24K01340
研究種目

基盤研究(B)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
研究機関東京大学

研究代表者

藤田 貴啓  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (60839687)

研究期間 (年度) 2024-04-01 – 2028-03-31
研究課題ステータス 交付 (2024年度)
配分額 *注記
17,550千円 (直接経費: 13,500千円、間接経費: 4,050千円)
2027年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2026年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2025年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2024年度: 11,180千円 (直接経費: 8,600千円、間接経費: 2,580千円)
キーワード薄膜 / 酸化物 / エレクトロニクス
研究開始時の研究の概要

トポロジカルに非自明な磁気構造は、量子力学的なベリー位相を介して伝導電子に対する仮想磁場として振舞い、様々な創発磁気輸送現象を起こすことが知られている。一方、本現象に対する従来の研究対象は金属磁性体に集中しており、工学応用に向けた材料選択の幅を狭めている。本研究では、非磁性金属と磁性絶縁体から成る機能分離されたヘテロ界面における、界面創発磁気輸送現象を開拓する。またそのための研究舞台である酸化物ヘテロ界面の高品質化に向けて、超高温エピタキシー技術を確立する。

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公開日: 2024-04-11   更新日: 2024-06-24  

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