研究課題
基盤研究(B)
波長2um以上の中赤外レーザーは産業および学術応用から高出力化が望まれている.特に波長2.1um帯Hoレーザーは1.9 um帯Tmファイバーレーザーを励起光源とした高効率動作が可能であることから大きな注目を集めている.しかしその設計概念は現在主流の半導体レーザー励起の波長1 umYbレーザーシステムに強く影響を受けている.本研究では半導体レーザー励起システムの固定観念を捨てた,超高輝度なTmファイバーレーザー励起に最適化された新規Ho媒質を用いた波長2.1um帯中赤外チャープパルス増幅システムを開発し,その飛躍的性能向上を実現することを目的とする.