粉体ターゲットを用いた傾斜機能型水素脆化防止膜の作製

• 研究課題/領域番号: 24K07008
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分14030:プラズマ応用科学関連
• 研究機関: 佐世保工業高等専門学校
• 研究代表者: 川崎 仁晴 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 教授 (10253494)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2027年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円); 2026年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円); 2025年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円); 2024年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
• キーワード: 粉体ターゲット / スパッタリング / プラズマプロセス / 傾斜機能性薄膜

研究開始時の研究の概要

他元素の混合粉体ターゲットを用いて、傾斜機能性薄膜の作製を行う。具体的には、粉体の混合比を一定量ずつ変化させた複数のターゲットを用いて、基板・薄膜界面は母材に近く、薄膜最表面（高圧水素との接触面）では水素侵入防止効果の大きい傾斜機能性薄膜を作製する。この手法で、高圧水素接触でも剥離がなく水素脆化防止効果が100％となる薄膜作製を目指す。