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粉体ターゲットを用いた傾斜機能型水素脆化防止膜の作製

研究課題

研究課題/領域番号 24K07008
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分14030:プラズマ応用科学関連
研究機関佐世保工業高等専門学校

研究代表者

川崎 仁晴  佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 教授 (10253494)

研究期間 (年度) 2024-04-01 – 2028-03-31
研究課題ステータス 交付 (2024年度)
配分額 *注記
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2027年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2026年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2025年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2024年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
キーワード粉体ターゲット / スパッタリング / プラズマプロセス / 傾斜機能性薄膜
研究開始時の研究の概要

他元素の混合粉体ターゲットを用いて、傾斜機能性薄膜の作製を行う。具体的には、粉体の混合比を一定量ずつ変化させた複数のターゲットを用いて、基板・薄膜界面は母材に近く、薄膜最表面(高圧水素との接触面)では水素侵入防止効果の大きい傾斜機能性薄膜を作製する。この手法で、高圧水素接触でも剥離がなく水素脆化防止効果が100%となる薄膜作製を目指す。

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公開日: 2024-04-05   更新日: 2024-06-24  

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