DCマグネトロンスパッタリングによる加速器の高性能化

• 研究課題/領域番号: 24K07079
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分15020:素粒子、原子核、宇宙線および宇宙物理に関連する実験
• 研究機関: 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
• 研究代表者: 山本 将博 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 准教授 (00377962)
• 研究分担者: 井藤 隼人 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 助教 (30881552) ; 谷本 育律 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 教授 (60311130) ; 岡田 貴文 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 助教 (70910579)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2025年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円); 2024年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
• キーワード: 加速器 / マグネトロンスパッタ / 超伝導薄膜 / NEGコーティング

研究開始時の研究の概要

高輝度・大電流ビームの効率的な加速・蓄積には高い転移温度と臨界磁場を有する超伝導加速器、真空ダクト表面で発生するガス放出や２次電子放出、電子刺激に伴うガス放出の抑制などが重要である。
これらの機能を有する薄膜をマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜を試み、その評価を行う。加速器やビームダクト実機に対する成膜技術・手法を確立する。