合金を用いたEUV多層膜反射鏡の開発（内部磁気圏撮像の機会増大をはかる）

• 研究課題/領域番号: 24K07111
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分17010:宇宙惑星科学関連
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 吉川 一朗 東京大学, 大学院新領域創成科学研究科, 教授 (10311169)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円); 2025年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円); 2024年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
• キーワード: EUV / リモートセンシング / プラズマ圏撮像 / 大気分光

研究開始時の研究の概要

２１世紀の初頭、ヘリウム一価イオンの共鳴散乱線（波長30.4nm）を効率よく集光できる多層膜反射鏡が地球物理学の分野に大きな成果をもたらした。モリブデンとシリコンを重ねることにより鏡の反射率を１８％にまで向上させ、内部磁気圏撮像を成功に導いた。計算上では高い反射率を実現できるが、実現には２種の物質の境界（界面）の安定性が重要にある。安定した界面を形成するのが難しいMgやAlを、Ｓｉ等との合金として使えば安定した界面を形成でき、高い反射率を有する可能性がある。ＭｇやＡｌを合金として用いた多層膜反射鏡を製造し、その特性調査と耐久試験までを行う。