| 研究課題/領域番号 |
24K07285
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分18040:機械要素およびトライボロジー関連
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
岡部 貴雄 東京大学, 生産技術研究所, 特任助教 (80649400)
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| 研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2027-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2026年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2025年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2024年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | 流体軸受 / イオン液体 / 高真空 / 蛍光観察 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
これまでの研究から，次世代半導体製造装置に必要とされている10^-5 Paの超高真空においてイオン液体を用いた冷却や，流体軸受の使用が可能なことが示されてきた．しかしながら，10^-5 Paの超高真空では，多量のイオン液体を使用した場合の液体挙動，および流体軸受の運動精度に与える影響は明らかとなっていない．また，位置決め機構のようにナノレベルの運動精度が対象となる際には，大気と真空下でイオン液体の挙動がわずかに異なることに起因する精度差も見出されてきている．本研究では，超高真空下におけるイオン液体の挙動を解明し，真空用流体機械の設計指を得る．
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