研究課題/領域番号 |
24K07349
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分19020:熱工学関連
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研究機関 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
研究代表者 |
後藤 真宏 国立研究開発法人物質・材料研究機構, ナノアーキテクトニクス材料研究センター, 主席研究員 (00343872)
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研究分担者 |
徐 一斌 国立研究開発法人物質・材料研究機構, マテリアル基盤研究センター, グループリーダー (30354244)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2027-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2026年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2025年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2024年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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キーワード | スカイラジエータ / コンビナトリアルスパッタ / コーティング / 機械学習 / 輻射 |
研究開始時の研究の概要 |
スカイラジエータ技術の向上によるCO2排出量の削減は、温暖化ガス排出量抑制の重要手 段として期待されている。この性能の向上には、熱放射を司るフィラー材料の革新が必要不 可欠であるが、材料探索空間の広さの問題から、飛躍的な性能向上には至っておらず、高効率な材料探索法の活用が望まれていた。 本研究では、組成・構造を変化させながら全自動で材料作製が可能なコンビナトリアル スパッタ手法を活用し、それに、赤外吸収特性の高効率マッピング分析が可能な顕微赤外FT-IR装置、および、機械学習を組み合わせることで、短期間で新規高性能スカイラジエータ用フィラー材料を見出すと共に、その熱放射メカニズムの学理構築を目指す。
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