耐摩耗性高摺動膜の超高速成膜メカニズム解明による大面積均一成膜技術の開発

• 研究課題/領域番号: 24K07452
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分21010:電力工学関連
• 研究機関: 岐阜大学
• 研究代表者: 針谷 達 岐阜大学, 工学部, 特任准教授 (20757108)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円); 2025年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円); 2024年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
• キーワード: 摺動性薄膜 / 高速成膜 / 均一成膜 / エネルギー損失低減

研究開始時の研究の概要

耐摩耗性高摺動膜の適用範囲を拡大することは，多様な機械部品の摩擦によるエネルギー損失を低減し，CO2排出量の大幅な抑制効果をもたらす。この摺動膜のひとつに，硬質アモルファスカーボンであるダイヤモンドライクカーボン（Diamond-like carbon: DLC）膜がある。DLC膜の適用範囲拡大の課題となっている高い装置導入コストと低成膜速度を解決する方法として，従来法より一桁以上成膜速度が速く，さらにより簡易な装置構成が可能な超高速プラズマCVD法を開発した。本研究では，超高速成膜が可能な領域の拡大のため，DLC超高速成膜プロセスにおける高速形成要因を特定し，大面積均一成膜の実現を目指す。