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二次元層状半導体MoS2の4d軌道エッジ強磁性の電気的制御
研究課題
サマリー
2024年度
基礎情報
研究課題/領域番号
24K07557
研究種目
基盤研究(C)
配分区分
基金
応募区分
一般
審査区分
小区分21050:電気電子材料工学関連
研究機関
東京工業大学
研究代表者
宗田 伊理也
東京工業大学, 工学院, 助教 (90750018)
研究期間 (年度)
2024-04-01 – 2027-03-31
研究課題ステータス
採択 (2024年度)
配分額
*注記
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2026年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2025年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2024年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)