研究課題
基盤研究(C)
有機半導体トランジスタのための有機半導体薄膜の製膜法の一つに、基板に有機半導体を溶解させた溶液を塗布して薄膜を得る手法がある。実用化に向けては、製膜速度とトランジスタの性能を向上させる必要があるが、溶液法で優れた有機薄膜を製膜するにはトラップサイトが少ない疎水性の基板に製膜することが効果的である。しかし、塗布法においては原理上、溶液を基板に塗り広げる必要があるので、疎水性の基板上に製膜することは難しい課題である。本研究では、基板に塗布した液滴が自発的に理想的な形と速度で蒸発するよう、基板に親水疎水パターニングを施し、溶液を滴下するだけで、疎水基板上に製膜が可能になる新しい製膜法を開発する。
