研究課題/領域番号 |
24K07615
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
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研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
研究代表者 |
武井 亮平 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (40739223)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2029-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2028年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2027年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2026年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2025年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2024年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
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キーワード | MEMS / ラムゼー共鳴 / シャッター |
研究開始時の研究の概要 |
本研究は、MEMS技術を活用して従来までのラムゼー共鳴による周波数標準の課題であった、原子干渉パルスの生成における漏れ光の発生を抑制し、周波数シフトを抑制する技術の確立を行う。MEMS技術では素子を小型化することができるため、機械的な高速性を高めることできる。しかしながら、遮光部が小さくなるために回折による漏れ光が発生してしまうため、これを防ぐために微細な絞りを、遮光部に近接させて設置する必要がある。そのため、MEMS微細加工技術と高度な実装技術を組み合わせて、これを達成する。 試作されたMEMSシャッターを用いて、測定系に組み込むことでラムゼー共鳴が発現するかどうかを確認する。
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