集積化マイクロイオンビームアレイのビーム大電流化と安定化の研究、

• 研究課題/領域番号: 24K08217
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分28050:ナノマイクロシステム関連
• 研究機関: 東北大学
• 研究代表者: 桑野 博喜 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 学術研究員 (50361118)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2025年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2024年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
• キーワード: 集束イオンビーム / MEMS / イオン液体 / マルチイオンビーム

研究開始時の研究の概要

高機能ナノ自由加工を実現するには、FIBの適用が有望である。しかし、加工効率が極端に悪いことがFIBのさらなる実応用の拡大を阻んでいることが大きな原因であると考える。電子ビームでもマルチビーム化が検討されているがレジスト露光のみの単用途である。これらに対して本研究では、M-FIBを用いた新しいマスクレス加工の研究によりM-FIBの基本技術を確立し、エッチング、イオン注入、表面修飾、薄膜形成などの複数の処理を同時に行う高機能自由ナノ加工を実現する。