超音速分子線照射による遷移金属材料に対する原子層エッチング表面反応機構の解明

• 研究課題/領域番号: 24K08246
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 伊藤 智子 大阪大学, 大学院工学研究科, 助教 (10724784)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 採択後辞退 (2024年度)
• 配分額: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円); 2026年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円); 2025年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円); 2024年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)