基板表面性状制御によるニッケル酸化物薄膜の高濃度水素貯蔵性能の創出

• 研究課題/領域番号: 24K08248
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
• 研究機関: 兵庫県立大学
• 研究代表者: 大坂 藍 兵庫県立大学, 工学研究科, 助教 (70868299)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2025年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円); 2024年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
• キーワード: 水素貯蔵材料 / ニッケル酸化物 / 表面処理 / 薄膜

研究開始時の研究の概要

水素エネルギーは使用後に水となり二酸化炭素を排出しない、低炭素社会を実現するエネルギーキャリアの１つである。水素エネルギー利用の実現には大気圧・常温で気体である水素の固体中への貯蔵技術の開発が必要不可欠である。本研究では環境負荷コストが低く、電気的に制御性のあるニッケル酸化物を用いた高密度水素貯蔵薄膜を実現する。ニッケル酸化物は結晶欠陥周辺で水素貯蔵性能が向上するため、膜内欠陥数の支配要因の１つである薄膜下地基板の粗さを原子レベルで制御することで、ニッケル酸化物薄膜の水素貯蔵性能を飛躍的に向上させる。