光表面化学修飾法による極薄カーボン系膜の低温コーティング技術に関する研究

• 研究課題/領域番号: 24K08255
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
• 研究機関: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
• 研究代表者: 中村 挙子 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 副研究部門長 (70357656)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2025年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2024年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
• キーワード: 光表面化学修飾 / カーボン膜 / コーティング / フッ素フリー / 撥水

研究開始時の研究の概要

光表面化学修飾法による極薄カーボン系膜の革新的コーティング手法の開発を目的とする。基材特性に影響を与えずに、安全簡便に各種基材の表面層に2 nm程度の極薄カーボン系膜を低温コーティングする技術を開発する。本技術により、従来法成膜によるカーボン系薄膜における低摩擦性を付与することを検討し、新規固体潤滑膜の開発を目指す。さらに国際的環境規制対策のために求められている完全フッ素フリー撥水コーティング膜としての特性発現を目指す。