二酸化スズ透明導電膜の新規パターニング・リサイクル技術の機構解明と精密制御

• 研究課題/領域番号: 24K08258
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
• 研究機関: 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター
• 研究代表者: 小川 大輔 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 技術支援本部技術支援部計測分析技術グループ, 副主任研究員 (80752740)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2026年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円); 2025年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円); 2024年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
• キーワード: 二酸化スズ系透明導電膜 / ウェットプロセス / パターニング / リサイクル

研究開始時の研究の概要

透明導電膜は、クリーンエネルギーの生産源（太陽電池）や、省エネルギーのデバイス（液晶パネル、発光ダイオード等）の透明電極に欠かせない材料です。現在最も普及している透明導電膜のITOは希少元素のインジウムを主成分としています。資源量豊富なスズを主成分とするSnO2系透明導電膜でITOを代替するため、ウェットプロセスでのパターニング・リサイクルを可能にする技術開発に取り組みます。