| 研究課題/領域番号 |
24K08294
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分30020:光工学および光量子科学関連
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| 研究機関 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 |
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研究代表者 |
宮坂 泰弘 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 関西光量子科学研究所 光量子ビーム科学研究部, 主任研究員 (20761464)
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| 研究分担者 |
桐山 博光 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 関西光量子科学研究所 光量子ビーム科学研究部, グループリーダー (40354972)
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| 研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2027-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2026年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2025年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2024年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | 超短パルスレーザー / パルスコントラスト / チャープパルス増幅 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
高強度レーザーパルスを用いた実験では、メインパルスに先行する光ノイズ成分が先にターゲットに到達する。光ノイズ成分の強度が高いとメインパルスが到達するまでにターゲットの状態が変化してしまうため、光ノイズ成分の抑制が課題となっている。本研究では、メインパルスに付随する光ノイズ成分の一つであるポストペデスタルの発生機構の解明と抑制をを行うことで、パルスコントラストの改善を目指す。
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