研究課題/領域番号 |
24K08296
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分30020:光工学および光量子科学関連
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研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
研究代表者 |
山下 大喜 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 研究員 (40858099)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2027-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2026年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2025年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2024年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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キーワード | 単一光子源 / シリコンフォトニクス / 二次元材料 / フォトニック結晶 |
研究開始時の研究の概要 |
二次元材料は強い層内共有結合と弱い層間ファンデルワールス力によって結合した層状物質で、三次元材料にはない様々なユニークな物性を持つ。その中でも二次元材料中の原子欠陥から単一の光子を発生させることが可能で、新たな量子光源として注目されている。この二次元材料がもつ単一光子源としての機能を、性能とコストを両立したデバイスとして応用発展させるために、本研究では、二次元材料単一光子源をフォトニクスプラットフォーム上に集積し、制御する基盤技術の確立を目指す。
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