ペルオキソ修飾チタニア光触媒へのCuイオン担持による新規漂白プロセスの開拓

• 研究課題/領域番号: 24K12940
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分57030:保存治療系歯学関連
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 西田 尚敬 大阪大学, 産業科学研究所, 特任准教授 (70448116)
• 研究分担者: 保尾 謙三 大阪歯科大学, 歯学部, 講師 (10632044) ; 関野 徹 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20226658) ; 本田 義知 大阪歯科大学, 歯学部, 教授 (90547259) ; 山本 一世 大阪歯科大学, 歯学部, 教授 (50288776)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2026年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円); 2025年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2024年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
• キーワード: 光触媒 / 可視光応答化 / 酸化チタン / ヒドロキシラジカル

研究開始時の研究の概要

本研究では、高濃度過酸化水素水を使用しない新規漂白プロセスの創製を目的とし、ペルオキソチタン錯体イオンを前駆体としたボトムアッププロセスによりチタン酸層状化合物表面にあらかじめ過酸化水素と同じ電子配置を持つペルオキソ構造を形成し、Cu2＋イオンによるフェントン型反応を利用したペルオキソ基の分解によるヒドロキシラジカル生成量の向上を図る。同時にCu2+への界面電荷移動による再結合抑制による可視光高感度化を同時に達成するために、Cu2+析出ナノ粒子の構造・機能設計をおこない、触媒活性メカニズムを解明する。そして抜去歯を用いた漂白効果を検討し新規漂白プロセスの開拓及び構築をおこなう。