| 研究課題/領域番号 |
24K15364
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 審査区分 |
小区分64030:環境材料およびリサイクル技術関連
|
|---|
| 研究機関 | 奈良工業高等専門学校 |
|---|
研究代表者 |
中村 秀美 奈良工業高等専門学校, 物質化学工学科, 教授 (70198232)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2027-03-31
|
| 研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2026年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2025年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2024年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
|
|---|
| キーワード | 吸着 / 金属リサイクル / 半導体めっき / 廃水処理 / ゼロ・エミッション |
|---|
| 研究開始時の研究の概要 |
本研究では半導体製造プロセスで生じる廃棄めっきメディアや排水から、①めっきメディアの表層を剥離し、酸溶解で得られたスラッジ溶液から、イオン交換/キレート樹脂を用いてNiとSnを分離・回収する吸着技術と電解処理による金属精錬回収技術を組み合わせて、金属Zn、Niを回収、②吸着技術を利用した排水からのSn4+の分離回収におけるイオン交換／キレート樹脂の評価、③Sn4+を捕捉しやすい官能基の探索・吸着メカニズム解明と新規吸着材の開発、④Sn4+の還元処理法について検討し、金属回収率90%、純度99%以上のSn、Niを回収する金属リサイクルシステムの社会実装を目指す。
|
