| 研究課題/領域番号 |
24K15594
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分80040:量子ビーム科学関連
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
中嶋 薫 京都大学, 工学研究科, 准教授 (80293885)
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| 研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2027-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2026年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2025年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2024年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
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| キーワード | スパッタリング / クラスターイオン / 有機分子薄膜 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
(1)アミノ酸・ペプチド、その他の有機分子の薄膜試料に数10 keV～数MeV程度のエネルギーのC60イオンを照射し、スパッタ収率の測定を行う。スパッタ収率と照射イオンのエネルギー、入射角との関係を求める。(2)上記の有機分子の薄膜試料のイオン照射による表面形状の発展をAFMで観察し、表面形状の発展の様子とスパッタ収率と照射イオンのエネルギー、入射角との関係を調べる。(3)高速C60イオン照射による有機分子薄膜のスパッタリング機構を解明し、照射条件などからスパッタ収率を計算することが可能な経験式の提案を行う。
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